プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9791 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→50 Å / Num. obs: 271195 / % possible obs: 98.6 % / 冗長度: 3.9 % / CC1/2: 0.996 / Rmerge(I) obs: 0.152 / Net I/σ(I): 5.6
反射 シェル
解像度: 1.95→2.07 Å / Rmerge(I) obs: 1.401 / Mean I/σ(I) obs: 0.92 / Num. unique obs: 42167 / CC1/2: 0.435 / % possible all: 95.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0411
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→49.67 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 7.722 / SU ML: 0.192 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.228 / ESU R Free: 0.178 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24677
13352
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.21747
-
-
-
obs
0.21891
257803
98.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.7 Å / 減衰半径: 0.7 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK