プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.46→101.5 Å / Num. obs: 12600 / % possible obs: 95.1 % / 冗長度: 36.7 % / CC1/2: 0.998 / Rmerge(I) obs: 0.317 / Net I/σ(I): 15.1
反射 シェル
解像度: 3.46→3.74 Å / 冗長度: 39 % / Mean I/σ(I) obs: 1.5 / Num. unique obs: 631 / CC1/2: 0.572 / % possible all: 71.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0403
精密化
XSCALE
データスケーリング
XDS
データ削減
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.46→100.02 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.891 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.897 / SU B: 51.092 / SU ML: 0.724 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.918 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.29551
1205
9.6 %
RANDOM
Rwork
0.28351
-
-
-
obs
0.28465
11394
79 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK