プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.55→50 Å / Num. obs: 35093 / % possible obs: 99.2 % / 冗長度: 6.8 % / Biso Wilson estimate: 23.9 Å2 / CC1/2: 0.997 / Rmerge(I) obs: 0.154 / Rrim(I) all: 0.167 / Net I/σ(I): 9.54
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
Rrim(I) all
% possible all
1.55-1.64
1.801
0.97
5478
0.477
1.952
97.1
1.64-1.75
1.116
1.63
5274
0.696
1.209
99.5
1.75-1.89
0.707
2.66
4915
0.855
0.764
99.8
1.89-2.07
0.35
5.16
4571
0.958
0.379
99.4
2.07-2.32
0.219
8.64
4123
0.98
0.237
99.9
2.32-2.67
0.153
12.23
3662
0.989
0.166
99.5
2.67-3.27
0.087
21.02
3152
0.997
0.094
99.7
3.27-4.62
0.049
33.61
2463
0.998
0.053
99.3
4.62-50
0.041
37.59
1453
0.999
0.045
98.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XSCALE
データスケーリング
XDS
20210323
データ削減
MOLREP
11.7.02
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.55→39.435 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 2.624 / SU ML: 0.084 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.089 / ESU R Free: 0.091 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2157
1755
5.001 %
Rwork
0.1782
33338
-
all
0.18
-
-
obs
-
35093
99.158 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT