プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.72→50 Å / Num. obs: 64632 / % possible obs: 91.8 % / 冗長度: 1.9 % / CC1/2: 0.986 / Rsym value: 0.099 / Net I/σ(I): 6.42
反射 シェル
解像度: 2.72→2.79 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.14 / Num. unique obs: 5006 / CC1/2: 0.702 / Rsym value: 0.615
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: AlphaFold model 解像度: 2.72→33.611 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.881 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.851 / SU B: 41.766 / SU ML: 0.388 / 交差検証法: FREE R-VALUE / ESU R Free: 0.431 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2937
1691
5.016 %
Rwork
0.2661
32019
-
all
0.268
-
-
obs
-
33710
96.207 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT