- PDB-7sr6: Human Endogenous Retrovirus (HERV-K) reverse transcriptase ternar... -
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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 7sr6
タイトル
Human Endogenous Retrovirus (HERV-K) reverse transcriptase ternary complex with dsDNA template Primer and dNTP
要素
DNA (5'-D(P*GP*GP*GP*AP*CP*CP*TP*GP*AP*AP*AP*GP*CP*GP*AP*AP*AP*GP*GP*GP*AP*AP*A)-3')
DNA (5'-D(P*TP*TP*TP*CP*CP*CP*TP*TP*TP*CP*GP*CP*TP*TP*TP*CP*AP*GP*GP*T)-3')
Polymerase
キーワード
REPLICATION / reverse transcriptase RT dCTP dTTP dsDNA template primer
機能・相同性
機能・相同性情報
DNA synthesis involved in DNA repair / DNA-templated DNA replication / RNA stem-loop binding / RNA-directed DNA polymerase activity / RNA-DNA hybrid ribonuclease activity / metal ion binding 類似検索 - 分子機能
Reverse transcriptase thumb / Reverse transcriptase thumb domain / RNase H / RNase H type-1 domain profile. / Ribonuclease H domain / Reverse transcriptase domain / Reverse transcriptase (RNA-dependent DNA polymerase) / Reverse transcriptase (RT) catalytic domain profile. / Ribonuclease H superfamily / Ribonuclease H-like superfamily ...Reverse transcriptase thumb / Reverse transcriptase thumb domain / RNase H / RNase H type-1 domain profile. / Ribonuclease H domain / Reverse transcriptase domain / Reverse transcriptase (RNA-dependent DNA polymerase) / Reverse transcriptase (RT) catalytic domain profile. / Ribonuclease H superfamily / Ribonuclease H-like superfamily / Reverse transcriptase/Diguanylate cyclase domain / DNA/RNA polymerase superfamily 類似検索 - ドメイン・相同性
解像度: 2.62→2.71 Å / Rmerge(I) obs: 1.08 / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique obs: 5724 / CC1/2: 0.78 / Rpim(I) all: 0.35 / % possible all: 49.4
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
autoPROC
データ削減
STARANISO
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.62→88.848 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 9.303 / SU ML: 0.127 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.07 / ESU R Free: 0.052 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2184
5628
4.92 %
RANDOM
Rwork
0.1679
108753
-
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all
0.17
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obs
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114381
91.771 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT