プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.00001 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.395→165.34 Å / Num. obs: 28433 / % possible obs: 79.1 % / 冗長度: 11.8 % / Rmerge(I) obs: 0.167 / Rsym value: 0.167 / Net I/σ(I): 9
反射 シェル
解像度: 2.395→2.436 Å / 冗長度: 10.6 % / Rmerge(I) obs: 0.018 / Mean I/σ(I) obs: 1.4 / Num. unique obs: 27492 / % possible all: 16.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
5.8.0267
精密化
PDB_EXTRACT
3.27
データ抽出
autoPROC
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: None 解像度: 2.4→165.34 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.945 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.947 / SU B: 17.159 / SU ML: 0.173 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.249 / ESU R Free: 0.201 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2141
941
3.3 %
RANDOM
Rwork
0.1854
-
-
-
obs
0.1864
27492
79.09 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK
原子変位パラメータ
Biso max: 166.53 Å2 / Biso min: 38.67 Å2
Baniso -1
Baniso -2
Baniso -3
1-
-0.75 Å2
-0.37 Å2
0 Å2
2-
-
-0.75 Å2
-0 Å2
3-
-
-
2.42 Å2
精密化ステップ
サイクル: final / 解像度: 2.4→165.34 Å
タンパク質
核酸
リガンド
溶媒
全体
原子数
3469
0
69
56
3594
Biso mean
-
-
58.66
62.93
-
残基数
-
-
-
-
442
拘束条件
Refine-ID
タイプ
Dev ideal
Dev ideal target
数
X-RAY DIFFRACTION
r_bond_refined_d
0.004
0.013
3554
X-RAY DIFFRACTION
r_bond_other_d
0.003
0.017
3295
X-RAY DIFFRACTION
r_angle_refined_deg
1.358
1.668
4839
X-RAY DIFFRACTION
r_angle_other_deg
1.107
1.584
7555
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_1_deg
6.179
5
437
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_2_deg
30.073
21.42
176
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_3_deg
13.853
15
542
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_4_deg
14.786
15
24
X-RAY DIFFRACTION
r_chiral_restr
0.051
0.2
460
X-RAY DIFFRACTION
r_gen_planes_refined
0.005
0.02
4031
X-RAY DIFFRACTION
r_gen_planes_other
0.002
0.02
823
LS精密化 シェル
解像度: 2.4→2.629 Å / Rfactor Rfree error: 0 /
Rfactor
反射数
Rfree
0.386
6
Rwork
0.311
74
精密化 TLS
手法: refined / Origin x: -26.65 Å / Origin y: 98.072 Å / Origin z: 61.994 Å