プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9785 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.38→81.19 Å / Num. obs: 51650 / % possible obs: 99.4 % / 冗長度: 5.4 % / Net I/σ(I): 8.33
反射 シェル
解像度: 2.38→2.42 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0158
精密化
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.38→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.921 / SU B: 13.125 / SU ML: 0.276 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.435 / ESU R Free: 0.275 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2669
2588
5 %
RANDOM
Rwork
0.22367
-
-
-
obs
0.22576
49004
99.31 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK