プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→50 Å / Num. obs: 30928 / % possible obs: 99.1 % / 冗長度: 6.4 % / Net I/σ(I): 30.2
反射 シェル
解像度: 2.1→2.16 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0238
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
REFMAC
精密化
精密化
解像度: 2.1→47.91 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.928 / SU B: 7.281 / SU ML: 0.188 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.267 / ESU R Free: 0.224 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26886
1527
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20243
-
-
-
obs
0.20575
29395
98.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK