プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.95→40 Å / Num. obs: 12022 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 7.6 % / Net I/σ(I): 9.6
反射 シェル
解像度: 2.95→3 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.96→35.55 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.882 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.812 / SU B: 19.024 / SU ML: 0.352 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.453 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27359
577
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.21819
-
-
-
obs
0.22088
11421
99.45 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK