プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97917 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.78→46.71 Å / Num. obs: 23098 / % possible obs: 94.6 % / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.196 / Net I/σ(I): 6.6
反射 シェル
解像度: 1.78→1.88 Å / 冗長度: 6.5 % / Rmerge(I) obs: 0.739 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / Num. unique obs: 6117 / % possible all: 96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0189
精密化
xia2
データ削減
pointless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.14→46.71 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.914 / SU B: 5.482 / SU ML: 0.144 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.292 / ESU R Free: 0.208 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22291
1157
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.16083
-
-
-
obs
0.16383
23098
99.28 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK