プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.52→30 Å / Num. obs: 47608 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 3.2 % / Rpim(I) all: 0.059 / Rsym value: 0.09 / Net I/σ(I): 8.8
反射 シェル
解像度: 1.525→1.565 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0189
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.52→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.96 / SU B: 3.065 / SU ML: 0.048 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.085 / ESU R Free: 0.074 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18589
2407
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1382
-
-
-
obs
0.14062
45172
97.13 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK