プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97923 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→45 Å / Num. obs: 27973 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 6.9 % / Rmerge(I) obs: 0.098 / Rpim(I) all: 0.041 / Net I/σ(I): 22.642
反射 シェル
解像度: 1.6→1.63 Å / 冗長度: 7 % / Rmerge(I) obs: 0.911 / Mean I/σ(I) obs: 3.165 / Num. unique obs: 1335 / Rpim(I) all: 0.367 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.6→45 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.969 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / SU B: 3.963 / SU ML: 0.062 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.109 / ESU R Free: 0.085 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19513
1408
5 %
RANDOM
Rwork
0.15236
-
-
-
obs
0.15466
26498
98.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK