モノクロメーター: Si(220) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→50.01 Å / Num. obs: 40166 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/av σ(I): 19.359 / Net I/σ(I): 11.2
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Diffraction-ID
% possible all
2.3-2.38
4.2
0.506
1
100
2.38-2.48
4.2
0.415
1
100
2.48-2.59
4.3
0.329
1
100
2.59-2.73
4.3
0.231
1
100
2.73-2.9
4.3
0.164
1
100
2.9-3.12
4.4
0.111
1
100
3.12-3.44
4.4
0.076
1
100
3.44-3.93
4.3
0.056
1
99.9
3.93-4.95
4.3
0.042
1
99.9
4.95-50
4.2
0.032
1
99.1
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.8.0135
精密化
PDB_EXTRACT
3.2
データ抽出
HKL-2000
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→50.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.928 / SU B: 11.79 / SU ML: 0.149 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.273 / ESU R Free: 0.214 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2367
1998
5 %
RANDOM
Rwork
0.1921
-
-
-
obs
0.1943
37946
99.38 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK