モノクロメーター: Si(220) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.25→50.01 Å / Num. obs: 41044 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 5.9 % / Rmerge(I) obs: 0.081 / Net I/av σ(I): 18.319 / Net I/σ(I): 9.9
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Diffraction-ID
% possible all
2.25-2.32
4.8
0.508
1
98.6
2.32-2.39
5.2
0.426
1
99.1
2.39-2.48
5.3
0.377
1
99.1
2.48-2.58
5.5
0.306
1
99.1
2.58-2.69
5.7
0.237
1
99.4
2.69-2.83
5.9
0.183
1
99.6
2.83-3.01
6.2
0.136
1
99.9
3.01-3.24
6.4
0.105
1
100
3.24-3.57
6.5
0.073
1
100
3.57-4.09
6.4
0.056
1
100
4.09-5.15
6.4
0.048
1
100
5.15-50
6.2
0.038
1
99.8
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
REFMAC
5.8.0135
精密化
PDB_EXTRACT
3.2
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.25→50.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 10.873 / SU ML: 0.138 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.24 / ESU R Free: 0.19 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.221
2061
5 %
RANDOM
Rwork
0.1847
-
-
-
obs
0.1866
38946
99.54 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK