プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.99987 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→50 Å / Num. obs: 32038 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 10.5 % / Rmerge(I) obs: 0.158 / Net I/σ(I): 13.13
反射 シェル
解像度: 1.95→2 Å / 冗長度: 10.9 % / Rmerge(I) obs: 4.95 / Mean I/σ(I) obs: 0.57 / CC1/2: 0.206 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0158
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.1→44.76 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.973 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 8.809 / SU ML: 0.114 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.153 / ESU R Free: 0.145 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20583
658
5 %
RANDOM
Rwork
0.16431
-
-
-
obs
0.16646
12500
98.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK