プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.59→24.88 Å / Num. obs: 9559 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 20.2 % / Net I/σ(I): 25
反射 シェル
冗長度: 20.9 % / Rmerge(I) obs: 0.63 / Mean I/σ(I) obs: 5.9 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0124
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 2.65→24.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.945 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.894 / SU B: 12.833 / SU ML: 0.266 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.292 / ESU R Free: 0.35 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26557
485
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20718
-
-
-
obs
0.21017
9057
99.79 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK