プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→40 Å / Num. obs: 61101 / % possible obs: 94.9 % / 冗長度: 5.6 % / Rmerge(I) obs: 0.063 / Net I/σ(I): 15.9
反射 シェル
解像度: 1.9→1.93 Å / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.49 / Mean I/σ(I) obs: 2.6 / % possible all: 95.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
dataprocessing
HKL-2000
データスケーリング
BSS
データ収集
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.9→29.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 3.457 / SU ML: 0.094 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.043 / ESU R Free: 0.039 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26988
3087
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21765
-
-
-
obs
0.22033
57838
94.61 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK