プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→40 Å / Num. obs: 74457 / % possible obs: 99.4 % / 冗長度: 7.5 % / Rmerge(I) obs: 0.073 / Net I/σ(I): 14.8
反射 シェル
解像度: 1.8→1.83 Å / 冗長度: 6.6 % / Rmerge(I) obs: 0.416 / Mean I/σ(I) obs: 5.1 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
dataprocessing
HKL-2000
データスケーリング
BSS
データ収集
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→37.89 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / SU B: 2.914 / SU ML: 0.09 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.137 / ESU R Free: 0.128 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22071
3737
5 %
RANDOM
Rwork
0.18422
-
-
-
obs
0.18611
70492
99.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK