プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.987 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.89→43.04 Å / Num. obs: 18350 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 6.7 % / Rpim(I) all: 0.043 / Net I/σ(I): 13.4
反射 シェル
解像度: 1.89→1.94 Å / 冗長度: 6.7 % / Mean I/σ(I) obs: 2.7 / Rpim(I) all: 0.33 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
xia2
データ削減
xia2
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.89→43.04 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 2.804 / SU ML: 0.079 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.109 / ESU R Free: 0.112 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1916
990
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14757
-
-
-
obs
0.14969
18350
99.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK