温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.5 詳細: Racemic M2-TM dissolved at ~3 mg/mL in 2% solution (w/v) racemic OG. Hanging drops of 1 uL peptide stock combined with 1 uL of precipitant containing 0.1 M ADA pH 6.5, 1.0 M ammonium sulfate ...詳細: Racemic M2-TM dissolved at ~3 mg/mL in 2% solution (w/v) racemic OG. Hanging drops of 1 uL peptide stock combined with 1 uL of precipitant containing 0.1 M ADA pH 6.5, 1.0 M ammonium sulfate were equilibrated with 500 uL reservoir volumes of precipitant., VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 298K
モノクロメーター: C(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97872 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.05→26.59 Å / Num. obs: 17458 / % possible obs: 92.6 % / 冗長度: 6.01 % / Biso Wilson estimate: 5.3 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.072 / Net I/σ(I): 12.89
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
Diffraction-ID
% possible all
1.05-1.08
2.54
0.381
2.54
702
1
65.9
1.08-1.11
3.33
0.31
3.33
1224
1
85.2
1.11-1.14
3.64
0.266
3.64
1126
1
91.4
1.14-1.17
3.53
0.184
3.53
1024
1
89.2
1.17-1.2
3.54
0.188
3.54
934
1
89.4
1.2-1.24
6.31
0.305
6.31
1136
1
94.3
1.24-1.28
7.15
0.285
7.15
1006
1
93.4
1.28-1.33
7.39
0.241
7.39
1100
1
95.2
1.33-1.38
7.31
0.212
7.31
948
1
94.4
1.38-1.44
7.4
0.194
7.4
983
1
96
1.44-1.51
7.43
0.131
7.43
963
1
95.7
1.51-1.59
7.42
0.119
7.42
894
1
96.5
1.59-1.69
7.49
0.09
7.49
908
1
97
1.69-1.83
7.51
0.082
7.51
948
1
97.6
1.83-2.02
7.44
0.064
7.44
904
1
98
2.02-2.31
7.33
0.051
7.33
886
1
98.4
2.31-2.91
7.28
0.044
7.28
895
1
99.1
2.91-26.59
6.79
0.037
6.79
877
1
98.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
XPREP
2008/2forWindows
データ削減
REFMAC
5.7.0029
精密化
PDB_EXTRACT
3.15
データ抽出
EMBL
MD-2 software
データ収集
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.05→26.59 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.987 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.983 / SU B: 0.553 / SU ML: 0.012 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.021 / ESU R Free: 0.022 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1556
867
5 %
RANDOM
Rwork
0.1383
-
-
-
obs
0.1392
17310
91.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK