モノクロメーター: Ni FILTER / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97856 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.8→50 Å / Num. all: 8811 / Num. obs: 8811 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 14.1 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 34.4
反射 シェル
解像度: 2.8→2.95 Å / 冗長度: 14.7 % / Rmerge(I) obs: 0.944 / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: Apo THA8 structure 解像度: 2.8→45.21 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.911 / SU B: 12.079 / SU ML: 0.229 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.531 / ESU R Free: 0.321 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.258
415
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.205
-
-
-
obs
0.207
8359
99.9 %
-
all
-
8365
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK