プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.7→30 Å / Num. all: 17821 / Num. obs: 17785 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 10.1 % / Rsym value: 0.058 / Net I/σ(I): 41.9
反射 シェル
最高解像度: 2.7 Å / 冗長度: 10.2 % / Mean I/σ(I) obs: 5.5 / Num. unique all: 1726 / Rsym value: 0.398 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.7→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.931 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.901 / SU B: 9.622 / SU ML: 0.191 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.303 / ESU R Free: 0.258 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27121
902
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.22999
-
-
-
obs
0.23201
16858
99.5 %
-
all
-
17821
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK