解像度: 2.26→30 Å / Num. all: 16343 / Num. obs: 15672 / % possible obs: 95.9 % / 冗長度: 3.1 % / Rsym value: 0.073 / Net I/σ(I): 14.7
反射 シェル
最高解像度: 2.26 Å / 冗長度: 2.2 % / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique all: 1310 / Rsym value: 0.34 / % possible all: 78.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.26→29.24 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.935 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.896 / SU B: 6.583 / SU ML: 0.163 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.266 / ESU R Free: 0.235 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27564
819
5 %
RANDOM
Rwork
0.21263
-
-
-
obs
0.21573
15522
95.35 %
-
all
-
16343
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK