モノクロメーター: double crystal Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→115.168 Å / Num. obs: 53820 / % possible obs: 98.3 % / 冗長度: 4.9 % / Rmerge(I) obs: 0.106 / Χ2: 1.184 / Net I/σ(I): 9.5
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2.6-2.69
4.9
0.623
5385
1.422
1
99.3
2.69-2.8
4.9
0.438
5405
1.092
1
99.3
2.8-2.93
5
0.317
5392
1.103
1
99
2.93-3.08
5
0.223
5375
0.926
1
98.9
3.08-3.28
5
0.173
5378
1.019
1
98.8
3.28-3.53
4.9
0.134
5379
1.312
1
98.6
3.53-3.88
4.8
0.112
5367
1.513
1
98.2
3.88-4.45
4.8
0.078
5380
1.263
1
98
4.45-5.6
4.8
0.063
5377
1.09
1
97.5
5.6-50
5
0.058
5382
1.12
1
95.6
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.6.0117
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.6→115.168 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / SU B: 20.892 / SU ML: 0.193 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.247 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2216
2683
5 %
RANDOM
Rwork
0.1746
-
-
-
obs
0.177
53745
98.23 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK