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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 4h5a | ||||||||||||||||||
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タイトル | DNA octamer D (GTseGTACAC) partially crosslinked with platinum | ||||||||||||||||||
![]() | DNA (5'-D(*![]() DNA / selenium modification to facilitate crystallization | 機能・相同性 | : / DNA | ![]() 手法 | ![]() ![]() ![]() ![]() Zhang, W. / Coronado, G. / Huang, Z. | ![]() ![]() タイトル: DNA octamer D (GTseGTACAC) partially crosslinked with platinum 著者: Zhang, W. / Coronado, G. / Huang, Z. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 15.4 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 9.3 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 373.9 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 377.4 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 3.7 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 4.3 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
関連構造データ | |
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類似構造データ |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 2520.592 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 / 詳細: short DNA 8mer with Se modification |
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#2: 化合物 | ChemComp-PT / |
#3: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.16 Å3/Da / 溶媒含有率: 43.01 % |
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.8 詳細: the platinum was added to the crystallization buffer , pH 6.8, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 298K |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 99 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: ADSC QUANTUM 315 / 検出器: CCD / 日付: 2012年7月13日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9795 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.42→21.08 Å / Num. obs: 4265 / 冗長度: 12.5 % / Rmerge(I) obs: 0.091 / Net I/σ(I): 17.93 |
反射 シェル | 解像度: 1.42→1.47 Å / 冗長度: 9.5 % / Rmerge(I) obs: 0.584 / Mean I/σ(I) obs: 3.73 / % possible all: 99.5 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 19.524 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.42→21.08 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 1.418→1.455 Å / Total num. of bins used: 20
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