プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.32→35.94 Å / Num. obs: 6813 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 5.2 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 18.6
反射 シェル
解像度: 2.32→2.41 Å / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.54 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 98.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
iMOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: TGISP1 解像度: 2.32→35.94 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.949 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 9.278 / SU ML: 0.21 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.327 / ESU R Free: 0.249 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26797
324
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.21817
-
-
-
obs
0.22052
6481
98.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK