プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.65→65.52 Å / Num. obs: 219395 / % possible obs: 97.5 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Net I/σ(I): 8.5
反射 シェル
解像度: 2.65→2.79 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.5 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / % possible all: 94.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
iMOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXCDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.65→62.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.928 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.873 / SU B: 12.859 / SU ML: 0.262 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.303 / ESU R Free: 0.354 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED ATOMS WERE NOT MODELED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26591
2792
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20335
-
-
-
obs
0.20641
53984
96.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK