プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.28 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→97.77 Å / Num. obs: 26506 / % possible obs: 93 % / Observed criterion σ(I): 1.9 / 冗長度: 5.3 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Net I/σ(I): 6.4
反射 シェル
解像度: 2.9→3.06 Å / 冗長度: 5.2 % / Rmerge(I) obs: 0.57 / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / % possible all: 95.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
XDS
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHENIX
AUTOSOL
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.9→77.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / SU B: 28.068 / SU ML: 0.23 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.612 / ESU R Free: 0.327 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23662
1421
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18492
-
-
-
obs
0.18741
26506
91.45 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.05 Å / 溶媒モデル: MASK