プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.934 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.52→53.3 Å / Num. obs: 62993 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 23.7 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 33.5
反射 シェル
解像度: 1.52→1.55 Å / 冗長度: 24.3 % / Rmerge(I) obs: 0.58 / Mean I/σ(I) obs: 6.6 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0033
精密化
MOSFLM
データ削減
Aimless
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.52→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 2.197 / SU ML: 0.044 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.073 / ESU R Free: 0.076 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. RESIDUES 197-198 ARE DISORDERED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20499
3168
5 %
RANDOM
Rwork
0.1735
-
-
-
obs
0.17507
59801
99.95 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK