解像度: 2.46→50 Å / Num. obs: 27736 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 9.8 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 45.4
反射 シェル
解像度: 2.46→2.5 Å / 冗長度: 9.8 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 9.74 / % possible all: 99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.46→24.72 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.916 / SU B: 11.366 / SU ML: 0.146 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.275 / ESU R Free: 0.226 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23434
1395
5 %
RANDOM
Rwork
0.1828
-
-
-
obs
0.18543
26340
99.71 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK