プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.78→28.65 Å / Num. obs: 91927 / % possible obs: 94.2 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4.7 % / Biso Wilson estimate: 17.33 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 21.4
反射 シェル
解像度: 1.78→1.81 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.46 / Mean I/σ(I) obs: 2.7 / % possible all: 98.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
PHENIX
(PHENIX.REFINE)
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
RESOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.783→28.651 Å / SU ML: 0.22 / σ(F): 0 / 位相誤差: 21.69 / 立体化学のターゲット値: ML 詳細: RESIDUE -6 TO 0 ARE DERIVED FROM PURIFICATION TAG IN EACH MONOMER
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2206
4592
5 %
Rwork
0.1951
-
-
obs
0.1964
91927
94.16 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.83 Å / VDWプローブ半径: 1.1 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 31.361 Å2 / ksol: 0.357 e/Å3