ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, HIS 302 TO GLU ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN B, HIS 302 TO GLU
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2.32 Å3/Da / 溶媒含有率: 46.91 % / 解説: NONE
結晶化
pH: 5.5 / 詳細: PH 5.5
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データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: SSRL / ビームライン: BL9-2 / 波長: 1
検出器
タイプ: MARMOSAIC 325 mm CCD / 検出器: CCD
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→48.28 Å / Num. obs: 67838 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 17.2
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å / 冗長度: 5.8 % / Rmerge(I) obs: 0.35 / Mean I/σ(I) obs: 4.9 / % possible all: 99.6
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.9→35.28 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.932 / SU B: 4.04 / SU ML: 0.118 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.165 / ESU R Free: 0.151 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25234
3436
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21555
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obs
0.21742
64335
99.83 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK