プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9334 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.54→73.25 Å / Num. obs: 6461 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 8.8 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 47.9
反射 シェル
解像度: 2.54→2.58 Å / 冗長度: 8.4 % / Rmerge(I) obs: 0.15 / Mean I/σ(I) obs: 21.9 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0116
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SHELXCDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.54→73.25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.929 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.88 / SU B: 11.151 / SU ML: 0.248 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.046 / ESU R Free: 0.33 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26336
301
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.19454
-
-
-
obs
0.19792
6151
99.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK