モノクロメーター: SI-111 CRYSTAL / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.071 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.57→41.04 Å / Num. obs: 23028 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 11 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 23.13
反射 シェル
解像度: 1.57→1.61 Å / 冗長度: 8.9 % / Rmerge(I) obs: 1.1 / Mean I/σ(I) obs: 2.02 / % possible all: 98.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: STRUCTURE OF SE-MET DERIVATIVE 解像度: 1.57→41.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.961 / SU B: 3.64 / SU ML: 0.058 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.092 / ESU R Free: 0.076 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES RESIDUAL ONLY. RESIDUES 47-50 ARE DISORDERED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20414
1152
5 %
RANDOM
Rwork
0.17581
-
-
-
obs
0.17724
21876
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK