温度: 300 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 詳細: Sitting drop: 21-30%A PEG600, 0.1M HEPES pH 6.2-8.2, 0.56mM Cymal-6. Crystals were soaked with SA2-13 inhibitor but no density could be observed, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 300K PH範囲: 6.8-8.2
解像度: 1.3→1.35 Å / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.753 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.5.0110
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.3→32 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.963 / SU B: 0.774 / SU ML: 0.033 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.051 / ESU R Free: 0.052 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18612
2915
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16386
-
-
-
obs
0.16496
54523
99.66 %
-
all
-
57612
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK