温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.2 詳細: PEG 8000, Mg acetate, MPD, ADA buffer, pH 6.2, vapor diffusion, hanging drop, temperature 298K
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: 回転陽極 / タイプ: RIGAKU / 波長: 1.54 Å
検出器
タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.69→15.92 Å / Num. obs: 22026
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 32.23 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
15.92 Å
Translation
2.5 Å
15.92 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
MOSFLM
3.2.17
データ削減
PHASER
2.1.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.69→15.92 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / WRfactor Rfree: 0.2539 / WRfactor Rwork: 0.2679 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.8259 / SU B: 3.829 / SU ML: 0.057 / SU R Cruickshank DPI: 0.1386 / SU Rfree: 0.1194 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.097 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS; U VALUES: RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2072
1133
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1752
-
-
-
obs
0.1768
22026
95.78 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK