モノクロメーター: Double crystal monochromator / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97915 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 7.8 % / Av σ(I) over netI: 18.35 / 数: 290928 / Rmerge(I) obs: 0.084 / Χ2: 1.06 / D res high: 2.1 Å / D res low: 40 Å / Num. obs: 37509 / % possible obs: 97.6
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.52
40
99.7
1
0.05
1.066
11
3.59
4.52
100
1
0.069
1.065
10.4
3.14
3.59
100
1
0.091
0.988
9.8
2.85
3.14
100
1
0.136
0.996
9.4
2.65
2.85
100
1
0.198
1.086
8.8
2.49
2.65
100
1
0.259
1.006
7.8
2.37
2.49
100
1
0.321
1.083
6.6
2.26
2.37
99.3
1
0.411
1.28
5.4
2.18
2.26
95
1
0.472
1.093
4.2
2.1
2.18
81.8
1
0.514
1.242
3.1
反射
解像度: 2.1→40 Å / Num. obs: 37509 / % possible obs: 97.6 % / 冗長度: 7.8 % / Rmerge(I) obs: 0.084 / Χ2: 1.064 / Net I/σ(I): 15
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
% possible all
2.1-2.18
3.1
0.514
3141
1.242
81.8
2.18-2.26
4.2
0.472
3674
1.093
95
2.26-2.37
5.4
0.411
3755
1.28
99.3
2.37-2.49
6.6
0.321
3858
1.083
100
2.49-2.65
7.8
0.259
3823
1.006
100
2.65-2.85
8.8
0.198
3815
1.086
100
2.85-3.14
9.4
0.136
3843
0.996
100
3.14-3.59
9.8
0.091
3847
0.988
100
3.59-4.52
10.4
0.069
3860
1.065
100
4.52-40
11
0.05
3893
1.066
99.7
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
33.15 Å
Translation
2.5 Å
33.15 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
1.3.3
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→33 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.941 / WRfactor Rfree: 0.2434 / WRfactor Rwork: 0.1984 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.33 / FOM work R set: 0.8242 / SU B: 9.885 / SU ML: 0.138 / SU R Cruickshank DPI: 0.2027 / SU Rfree: 0.1781 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.179 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2349
1874
5 %
RANDOM
Rwork
0.189
-
-
-
obs
0.1913
37441
97.49 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK