THE DEPOSITORS STATE THAT UNIPROT IS INCORRECT AT THIS POSITION AND THAT THE SEQUENCE IN THE ...THE DEPOSITORS STATE THAT UNIPROT IS INCORRECT AT THIS POSITION AND THAT THE SEQUENCE IN THE DATABASE WILL BE UPDATED.
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→19.71 Å / Num. obs: 205938 / % possible obs: 92.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.3 % / Biso Wilson estimate: 8.04 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.027 / Rsym value: 0.027 / Net I/σ(I): 17.8
反射 シェル
解像度: 1.4→1.48 Å / 冗長度: 2.1 % / Rmerge(I) obs: 0.074 / Mean I/σ(I) obs: 10.9 / Rsym value: 0.074 / % possible all: 68.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.4.0069
精密化
MAR345
データ収集
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXD
位相決定
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.4→19.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 0.588 / SU ML: 0.025 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.054 / ESU R Free: 0.052 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: RESIDUES ALA B 419 AND GLN B 420 LOCATED IN REGION WITH POORLY DEFINED ELECTRON DENSITY. HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16648
10309
5 %
RANDOM
Rwork
0.15539
-
-
-
all
0.15595
-
-
-
obs
0.15595
195629
92.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK