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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 3ca7 | ||||||
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タイトル | High Resolution Crystal Structure of the EGF domain of Spitz | ||||||
![]() | Protein spitz | ||||||
![]() | HORMONE/SIGNALING PROTEIN / Spitz / Argos / EGF / Developmental protein / Differentiation / EGF-like domain / Endoplasmic reticulum / Glycoprotein / Golgi apparatus / Membrane / Neurogenesis / Transmembrane / HORMONE-SIGNALING PROTEIN COMPLEX | ||||||
機能・相同性 | ![]() ectodermal cell fate determination / stomatogastric nervous system development / stem cell fate commitment / photoreceptor cell fate determination / epithelial cell proliferation involved in Malpighian tubule morphogenesis / photoreceptor cell differentiation / determination of genital disc primordium / ommatidial rotation / oenocyte development / dorsal closure ...ectodermal cell fate determination / stomatogastric nervous system development / stem cell fate commitment / photoreceptor cell fate determination / epithelial cell proliferation involved in Malpighian tubule morphogenesis / photoreceptor cell differentiation / determination of genital disc primordium / ommatidial rotation / oenocyte development / dorsal closure / spiracle morphogenesis, open tracheal system / border follicle cell migration / positive regulation of border follicle cell migration / imaginal disc-derived wing morphogenesis / heart process / behavioral response to ethanol / olfactory learning / peripheral nervous system development / transmembrane receptor protein tyrosine kinase activator activity / epidermal growth factor receptor binding / positive regulation of neurogenesis / epidermal growth factor receptor signaling pathway / cell surface receptor signaling pathway / positive regulation of ERK1 and ERK2 cascade / receptor ligand activity / Golgi membrane / negative regulation of gene expression / positive regulation of cell population proliferation / endoplasmic reticulum membrane / negative regulation of apoptotic process / endoplasmic reticulum / extracellular space / membrane / plasma membrane 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | ![]() ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Klein, D.E. / Stayrook, S.E. / Lemmon, M.A. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Structural basis for EGFR ligand sequestration by Argos. 著者: Klein, D.E. / Stayrook, S.E. / Shi, F. / Narayan, K. / Lemmon, M.A. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 24.6 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 14.4 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 6012.862 Da / 分子数: 1 / 断片: UNP residues 76-127 / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) ![]() ![]() 遺伝子: spi / プラスミド: pMT/BiP/V5-HisA(Invitrogen) / Cell (発現宿主): Schneider-2 cells 発現宿主: ![]() ![]() 参照: UniProt: Q01083 |
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#2: 水 | ChemComp-HOH / |
Has protein modification | Y |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.17 Å3/Da / 溶媒含有率: 43.19 % |
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結晶化 | 温度: 294 K / pH: 6.5 詳細: 15mM ammonium sulphate, 0.1M MES pH 6.5, 24% ethylene glycol, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 294K, pH 6.50 |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: MARMOSAIC 300 mm CCD / 検出器: CCD / 日付: 2007年4月5日 / 詳細: 3.0 UNDULATOR |
放射 | モノクロメーター: SAGITALLY FOCUSED SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.92 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.499→50 Å / Num. obs: 7284 / % possible obs: 91.6 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 5.3 % / Biso Wilson estimate: 20.6 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.047 / Net I/σ(I): 16.3 |
反射 シェル | 解像度: 1.499→1.55 Å / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.21 / Mean I/σ(I) obs: 4.6 / % possible all: 56.6 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]() 開始モデル: PDB ENTRY 1JL9 解像度: 1.5→30.5 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 1.273 / SU ML: 0.05 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.095 / ESU R Free: 0.096 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 20.66 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.5→30.5 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 1.5→1.54 Å / Total num. of bins used: 20
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