モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9789 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→19.65 Å / Num. all: 43508 / Num. obs: 43465 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 4 / 冗長度: 14.1 % / Biso Wilson estimate: 35 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.047 / Net I/σ(I): 24.2
反射 シェル
解像度: 1.7→1.8 Å / 冗長度: 10.6 % / Rmerge(I) obs: 0.313 / Mean I/σ(I) obs: 4.2 / Num. unique all: 6744 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データスケーリング
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→19.65 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.952 / SU B: 4.842 / SU ML: 0.073 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.093 / ESU R Free: 0.099 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21406
2191
5 %
RANDOM
Rwork
0.1695
-
-
-
obs
0.17169
41272
99.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK