モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.29→50 Å / Num. obs: 73441 / % possible obs: 93.8 % / 冗長度: 6 % / Rmerge(I) obs: 0.113 / Net I/σ(I): 22.5
反射 シェル
解像度: 2.3→2.34 Å / 冗長度: 6.5 % / Rmerge(I) obs: 0.355 / Mean I/σ(I) obs: 5.7 / % possible all: 98.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.29→37.39 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 5.873 / SU ML: 0.146 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.234 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23883
3699
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20416
-
-
-
obs
0.20595
69424
93.46 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK