A: Component A of hexaprenyl diphosphate synthase B: Component B of hexaprenyl diphosphate synthase C: Component A of hexaprenyl diphosphate synthase D: Component B of hexaprenyl diphosphate synthase ヘテロ分子
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→133.63 Å / Num. obs: 44225 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 11.4 % / Rsym value: 0.083 / Net I/σ(I): 29.3
反射 シェル
解像度: 2.4→2.49 Å / 冗長度: 11.5 % / Mean I/σ(I) obs: 5.4 / Rsym value: 0.494 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.5.0066
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 / 解像度: 2.4→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.92 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.895 / SU B: 8.993 / SU ML: 0.209 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.286 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27564
2227
5 %
RANDOM
Rwork
0.23952
-
-
-
obs
0.24134
41988
99.94 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK