解像度: 1.74→30 Å / Num. obs: 16510 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 10.8 % / Rmerge(I) obs: 0.055 / Net I/σ(I): 14.6
反射 シェル
解像度: 1.74→1.8 Å / 冗長度: 9.9 % / Rmerge(I) obs: 0.396 / Mean I/σ(I) obs: 4.28 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.74→28.97 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 2.746 / SU ML: 0.09 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.139 / ESU R Free: 0.13 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23777
832
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19901
-
-
-
obs
0.201
15603
99.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK