タイプ: RIGAKU JUPITER 210 / 検出器: CCD / 日付: 2004年7月3日 詳細: A fixed exit Si double crystal monochromator followed byStandard double crystal monochromator and Rh-coated downward-deflection mirror with a typical glancing angle of 3.7mrad
放射
プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.9
1
2
0.97888
1
3
0.97932
1
反射
解像度: 1.7→29.14 Å / Num. obs: 68157 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 4.3 % / Biso Wilson estimate: 17.183 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.083 / Net I/σ(I): 8.8
反射 シェル
解像度: 1.7→1.76 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.226 / Mean I/σ(I) obs: 4.3 / % possible all: 99.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
BSS
データ収集
CrystalClear
データ削減
CrystalClear
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.7→29.14 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / SU B: 2.345 / SU ML: 0.079 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.12 / ESU R Free: 0.115 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.235
3379
5 %
RANDOM
Rwork
0.202
-
-
-
obs
0.204
64742
99.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK