プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.319 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→49.6 Å / Num. obs: 27945 / % possible obs: 97.9 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 7.1 % / Biso Wilson estimate: 17.958 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 22
反射 シェル
解像度: 1.7→1.79 Å / 冗長度: 7.2 % / Rmerge(I) obs: 0.46 / Mean I/σ(I) obs: 5.2 / % possible all: 96.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXCDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.7→49.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.94 / SU B: 3.978 / SU ML: 0.06 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.091 / ESU R Free: 0.09 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS SUM OF TLS AND RESIDUAL B FACTORS ANISOU RECORD CONTAINS SUM OF TLS AND RESIDUAL U FACTORS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20051
765
2.7 %
RANDOM
Rwork
0.17281
-
-
-
obs
0.17356
27945
97.93 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK