プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→20 Å / Num. obs: 85794 / % possible obs: 96.4 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.4 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Net I/σ(I): 10.9
反射 シェル
解像度: 2.9→2.97 Å / 冗長度: 4.4 % / Rmerge(I) obs: 0.42 / Mean I/σ(I) obs: 3.4 / % possible all: 95.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0072
精密化
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.9→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.915 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.868 / SU B: 17.947 / SU ML: 0.346 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.456 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27392
998
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21578
-
-
-
obs
0.21885
18625
96.57 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK