プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.933 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→50 Å / Num. obs: 26728 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 14 % / Biso Wilson estimate: 35.706 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 29.19
反射 シェル
解像度: 1.85→1.96 Å / 冗長度: 14 % / Rmerge(I) obs: 0.7 / Mean I/σ(I) obs: 4.7 / % possible all: 99.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.85→40.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.945 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.933 / SU B: 4.574 / SU ML: 0.132 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.167 / ESU R Free: 0.152 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26218
2826
10.1 %
RANDOM
Rwork
0.22991
-
-
-
obs
0.23319
25212
99.91 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK