プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.59→24.79 Å / Num. obs: 60575 / % possible obs: 97.5 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 8.9 % / Biso Wilson estimate: 0 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.16 / Net I/σ(I): 7.3
反射 シェル
解像度: 2.59→2.73 Å / 冗長度: 8.6 % / % possible all: 74
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.59→14.94 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.925 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.878 / SU B: 11.613 / SU ML: 0.247 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0 / ESU R Free: 0.337 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.248
3037
5 %
RANDOM
Rwork
0.198
-
-
-
obs
0.201
57221
98.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK