モノクロメーター: TRIANGULAR MONOCHROMATOR / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97955 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.45→30 Å / Num. all: 99034 / Num. obs: 99034 / % possible obs: 97.8 % / 冗長度: 3.7 % / Biso Wilson estimate: 12.6 Å2 / Rsym value: 0.05 / Net I/σ(I): 8.5
反射 シェル
解像度: 1.45→1.53 Å / 冗長度: 3.7 % / Mean I/σ(I) obs: 2.9 / Num. unique all: 14110 / Rsym value: 0.25 / % possible all: 96.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SHELXD
位相決定
SHARP
位相決定
NCSREF
モデル構築
REFMAC
5.2.0019
精密化
MAR345
CCD
データ収集
MOSFLM
データ削減
CCP4
(SCALA)
データスケーリング
SHELXE
モデル構築
ARP/wARP
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.45→28.38 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 2.063 / SU ML: 0.042 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.072 / ESU R Free: 0.072 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: TLS REFINEMENT HAVE BEEN USED. HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.199
4977
5 %
RANDOM
Rwork
0.174
-
-
-
all
0.175
98979
-
-
obs
0.175
98979
97.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK