ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASP 151 TO ASN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, GLU 222 TO GLN ...ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASP 151 TO ASN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, GLU 222 TO GLN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN B, ASP 151 TO ASN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN B, GLU 222 TO GLN
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2.2 Å3/Da / 溶媒含有率: 44.5 %
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データ収集
回折
平均測定温度: 110 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: MAX II / ビームライン: I911-2 / 波長: 1.042
検出器
日付: 2006年4月6日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.042 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.35→40 Å / Num. obs: 30603 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 17.5
反射 シェル
解像度: 2.35→2.41 Å / Rmerge(I) obs: 0.19 / % possible all: 93.1
解像度: 2.35→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.938 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.894 / SU B: 6.941 / SU ML: 0.169 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.456 / ESU R Free: 0.256 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.236
1540
5 %
RANDOM
Rwork
0.18
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-
-
obs
0.183
29050
99.2 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK